滲透是自然界很常見的現象，大致的解釋一下，具體例子。把一個黃瓜放在鹽水里面，黃瓜因為流失了水分，變得小了。黃瓜的水分子流失進入到鹽水的過程就是滲透的過程。使用一張半透明的膜，只能夠水通過這張膜，把溶液分成了兩個部分，膜的兩側注入水，一面是鹽水，另一面是純水到同一個位置。過段時間，會發現純水的液面的高度下降了，鹽水的高度增加了。這樣的水分子通過膜向食鹽水遷移的現象叫做滲透。當鹽水高度達到某個高度就會平衡了，膜的兩端的壓力就是滲透壓。


到了平衡之后，在鹽水的一側施加一定的壓力，水分子就流向純水方向。這樣的現象稱作為反滲透現象。這就是純凈水處理設備的工作原理。

純凈水處理設備采用膜分離技術，能有效的去除水中的雜質，如：有機物、細菌、病毒等，是高純水設備，操作起來簡單方便，應用范圍廣泛，如：醫院、電子、工業、食品等領域。

首先利用原水經過泵進行加壓，然后再進入多介質過濾器去除水中大介質的雜質，下一步到活性碳過濾器主要是去味，去氯能功效，然后再利用軟水處理器添加阻垢劑裝置后去除水中的鈣鎂離子，再經過精密過濾器對水進行一次精密過濾，在經過高壓泵對水...

超純水設備在電子行業的使用和對水質的要求不低于醫藥行業，因為超純水用于電子產品的生產，其水質直接關系到產品質量。因此，大多數電子制造企業將采用電子行業超純水設備對原水進行處理，使原水達到用水標準。

據了解，一塊芯片需要幾十種工藝和技術，每一種工藝都可能代表高科技水平。因此，芯片生產過程中對水質的要求非常高，芯片中的雜質對電阻率影響很大。當少量雜質摻雜到芯片中時，雜質原子附近的周期性勢場被擾動，形成附加的束縛態。因此，電子行業超純水設備的出水電阻達到18MΩ*cm（25℃）。該水除水分子外幾乎不含任何雜質，完全滿足芯片生產用水需求，解決了中國目前的“核心”問題。...

1、手工擦洗法
該方法是一種比較原始但有效的方法。母體做法是將拆解開來的平板膜用柔軟物質(如海綿)輕輕擦拭膜面上的污垢，邊擦邊用水沖洗掉，這種方法可有效地除掉膜表面上大量的污垢。但對于深入膜孔中更細小的雜質則無能為力。
2、等壓水力沖洗法
任何構型的超濾組件均可以利用這種方法進行膜清洗。具體做法是關閉產水閥門，打開濃水出口閥門，靠增大的流速沖洗膜表面，這對去除膜表面上大量松軟的雜質有效。等壓沖洗的效果還與其連續沖洗的頻率有關。
3、反向沖洗法
反向沖洗法是一種從膜的背面(多孔支撐層)向正面(密層)進行沖洗的方法。這是一種行之有效的清洗方法。反向沖洗膜后，再進行等壓水力沖洗法，清洗效果很明顯。
4、熱水沖洗法
利用加熱過的水(30～40~C)沖洗膜表面，對那些黏稠而又有熱溶性的雜質(如糖類)去除效果明顯。
5、水一氣混合清洗法
將凈化過的壓縮空氣與水一道送入超濾裝置，水一氣混合流體會在膜表面產生劇烈的攪動作用而去除比較頑固的雜質。效果也比較好。

水處理設備反滲透膜清洗化學方法
水處理設備反滲透膜清洗時選擇化學藥品的...

1、中型工業純凈水設備要選擇合適的清洗劑配方，在清洗水箱中配制清洗液，用泵循環清洗液，攪拌均勻備用。
2、各段沖洗后，按規定的運行方式進行低壓沖洗和高壓運行，產出水排入排水溝，出水指標合格后進入產品水箱。
3、連接清洗管道后，打開水處理清洗泵的電源開關，按照規定的流量、壓力、溫度清洗1-2小時，必要時浸泡1-2小時。起初排放的清洗液被排放到水槽中，以確保清洗液的濃度。
4、清洗完畢后，將清洗水箱中的殘液排出，注入符合反滲透裝置進水指標的水進行水處理，同等條件下沖洗。或者用原水泵類似的低壓沖洗條件沖洗。

5、關閉反滲透裝置上的進出水閥和排水閥，打開反滲透裝置上的化學清洗進出閥，形成循環清洗系統。
6.清洗后，沖洗掉化學清洗裝置，避免將清洗過濾器、清洗水泵等設備放在清洗液中。...